포스텍은 이규철 신소재공학과 교수가 이끄는 반도체 나노막대 연구단이 최근 스위스 제네바에서 열린 '제36회 2008 제네바 국제 발명·신기술 전시회'에 '나노 디바이스 및 이를 포함하는 트랜지스터의 제조방법' 특허를 출품해 금상을 수상했다고 20일 밝혔다.

이 특허는 촉매나 깎아내는 방식의 광식각 공정을 사용하지 않아서 나노 구조물의 오염 및 표면 손상이 전혀 없는 우수한 반도체 나노소재 및 소자를 대량으로 생산할 수 있는 기술이다.

연구팀 관계자는 "이 기술은 기존의 실리콘 기반 공정을 그대로 사용, 적은 생산비용으로 초고집적 반도체 나노소자, 전계방출 평판디스플레이, 광결정 등을 효율적으로 구현할 수 있어 현지 과학기술인들로부터 호평을 받았다"고 말했다.

한편 이 대회에 참석한 러시아 과학기술부는 이규철 교수팀이 발표한 나노 기술의 독창성과 우수성을 인정해 대회장에서 특별상을 수여했다. 또 이 기술의 발명자 중 한 명인 포스텍 박사과정 홍영준 씨는 개인적인 연구 성과를 인정받아 바우만 모스크바 국립공대 학장의 개인특별상을 수상하기도 했다.

이규철 교수는 "이 기술은 나노구조물의 위치, 크기와 모양을 매우 쉽게, 자유자재로 조절할 수 있는 반도체 제조의 원천기술로서, 기존의 광식각공정의 한계를 극복할 수 있다"며 "향후 고품질, 고집적의 광소자와 전자소자 제조 등 다양한 응용분야에 유용하게 활용될 수 있을 것"이라고 밝혔다. 이 연구결과는 신소재 분야의 세계적 학술지 '어드밴스드 머티리얼스(Advanced Materials)'지에 출판될 예정이다.